国内首条！12寸硅光芯片流片平台在武汉光谷投用

据中国光谷消息，近日，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台正式在光谷投用，该平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）建设运营，标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。

（国家信息光电子创新中心硅光芯片，来源：中国光谷）

国家信息光电子创新中心2018年在光谷揭牌，承载解决我国信息光电子制造业关键共性技术协同研发和首次商业化应用的战略任务。7年多来，已服务支撑300余家单位，完成800多次订单，并突破了1.6T硅光互连芯片、2T芯粒、145GHz强度调制器等关键技术。

东湖高新区前瞻布局，支持国家信息光电子创新中心建设12寸硅光芯片开发服务平台，通过提供稳定、开放、完善的MPW（多项目晶圆）流片服务，推动产业从“单点突破”向“集群化、规模化”发展。该平台创新构建硅光MPW服务模式，通过将多个芯片设计集成于同一晶圆流片，实现成本分摊，大幅降低研发门槛。平台基于40nm制程的硅光PDK1.0性能总体达到商用要求，其加工精度、波导损耗、光耦合效率等指标达国际先进水平。除了PDK外，平台还集成了TDK和ADK，可提供芯片从集成设计到封装验证的全流程支撑，可满足科研成果转化和产品研制中的快速迭代需求，助力项目加速落地。

据悉，国产硅光芯片流片所面临的挑战，是一个环环相扣的系统性难题。在共享经济日益成熟的今天，多项目晶圆（MPW）服务，正成为破解当前国产硅光流片困局最现实、也最关键的策略之一。MPW通过将多个工艺兼容的芯片设计集成于同一晶圆上进行流片，实现成本分摊，大幅降低中小企业和科研机构的研发门槛。

对高校和初创公司而言，MPW将原本高昂的掩膜版及晶圆制造成本，分摊给数十个设计项目，使单次流片成本降至原来的十分之一甚至更低，有力支撑了科研与小规模创新的持续开展。对设计公司而言，MPW使其能以更低成本进行多轮设计迭代，快速验证设计理念与IP模块，加速技术成熟，从而更敢于投入前沿探索。而代工厂也在处理多样化设计的过程中，积累起宝贵的工艺数据，持续反哺PDK的完善与工艺的稳定，形成“流片越多、工艺越成熟”的良性循环。