- 台积电重磅调整：老旧8英寸晶圆厂转产EUV掩模保护膜
- 台积电重磅调整：老旧8英寸晶圆厂转产EUV掩模保护膜
- SK海力士引进存储器业界首台量产型High NA EUV设备
- 【进展】新研究提出用光为量子自旋“护航”；中国科学院微电子研究所在EUV光刻收集镜红外辐射抑制方面取得新进展；中国科学院国家纳米科学中心鄢勇团队在基于离子型神经形态器件构筑智能味觉系统方面取得进展
- 英特尔：ASML首批两台High-NAEUV设备已投产
- 可量产0.2nm工艺！ASML公布超级EUV光刻机：但死胡同也不远了
- 我们弯道超车的机会来了，EUV光刻机，有了新技术，更先进
- ASML摊牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时，才要换EUV光刻机
- ASML要慌：EUV光刻机新光源出现，成本降50%，功耗降80%
- 中国芯的好消息：EUV光刻机没有下一代，芯片工艺达到极限
