- IBM、美光等巨头联手纽约共建100亿美元芯片园区，引进EUV光刻机，推动全球芯片产业创新
- 投资100亿美元，IBM、美光、应材、东京电子参与High NA EUV中心建设
- 三星自研EUV光罩保护膜透光率已达90%
- 5纳米无需EUV，ASML的光刻机将成废铁，中国市场成救命稻草
- 价格只有EUV的10%，佳能销售5nm光刻机，但不卖给中国
- 7nm芯片，不用EUV光刻机一样造，这就是我们的能力和底气？
- 2纳米无需EUV光刻机，ASML或面临灭顶之灾，难怪加紧对中国出货了
- 有点搞笑了，佳能5nm纳米压印技术，也离不开EUV光刻机
- 佳能纳米压印技术挑战EUV，台积电、联电、光罩有机会受益
- 佳能5nm NIL光刻机告诉我们，绕过EUV，或许才是出路
