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国务院修订《集成电路布图设计保护条例》10月15日施行,首次将光子量子芯片纳入保护范围

2026-08-04 来源:电子工程专辑
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关键词: 集成电路布图设计保护条例 独创性声明 惩罚性赔偿 光子量子集成电路 知识产权

近日,国务院总理李强签署第842号国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),自2026年10月15日起施行。这是该条例自2001年颁布以来25年来的首次全面修订,标志着我国集成电路知识产权保护制度迈入新阶段。

此次修订最引人注目的突破,是将保护范围从传统电子集成电路扩展至集成光子、量子等功能的集成电路布图设计。

国家工业信息安全发展研究中心知识产权所黄蕴华指出,当前传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界,光子、量子等颠覆性技术不断涌现,推动集成电路迈入以新架构、新机理、新材料、新器件为竞争主线的后摩尔时代。我国"十五五"规划明确提出要推进存算一体、三维集成、光电融合等技术突破应用。新修订的《条例》及时回应技术发展前沿,将"集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计"纳入保护范围,正是对集成电路技术发展的准确把脉与积极回应。

自2022年起,我国含有光子、量子器件的集成电路布图设计登记申请数量开始增多,2024年后呈现出规模申报的趋势。可以预见,修订后的《条例》将与时代同频共振,进一步发挥集成电路布图设计专有权的保护优势,激励创新主体设计热情。

独创性声明制度

本次修订的另一大亮点是增加了"独创性声明"要求。中国社会科学院法学研究所李顺德解释道,集成电路布图设计的"独创性"是获准登记、取得法律保护的实体要件,但实践中很难通过申请登记程序具体指明、限定"独创性"的全部必要信息,导致其内涵及外延模糊不清,判定成本高昂。

修订后的《条例》要求申请人在登记时提交独创性声明,指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能。这一制度将抽象的"独创性"判断要件转化为可审查、可举证的书面文件,申请登记后存入官方档案,成为判断布图设计是否具备独创性的法定关键书证。

李顺德认为,独创性声明制度使权利边界更加清晰,在保护权利人合法权益的同时,更好地平衡了布图设计权利人与社会公众之间的利益。虽然在申请前端增加了少量撰写成本,但可在确权、维权、运用等后端环节大幅降本增效,最终实现社会总体成本的显著下降。

故意侵权最高赔5倍,第三方可直接挑战"问题专利"

在加强专有权保护方面,修订后的《条例》引入了惩罚性赔偿制度。侵权赔偿额按照权利人受到的实际损失或者侵权人获得的利益确定;难以确定的,参照许可使用费的倍数合理确定。对故意侵犯布图设计专有权、情节严重的,可以在上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。

清华大学法学院崔国斌指出,登记的布图设计通常包含较多独创性细节,修订后的《条例》在强化登记申请文件要求和确定专有权保护范围方面作出系列修改,使得布图设计的独创性部分与修订前相比更加容易查证。权利人在证明侵权人存在主观故意且情节严重的情况下,惩罚性赔偿可对侵权人构成现实威慑。

修订前的《条例》对布图设计获准登记后发现不符合规定的撤销程序仅限于国家知识产权局依职权启动,实践中第三方仅可提出撤销建议。修订后的《条例》引入了依第三方请求启动撤销登记的程序,任何人发现登记不符合规定的,可以请求国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记。

崔国斌认为,这一程序与专利权无效宣告程序十分相似。在布图设计侵权诉讼中,被告不应直接提出登记应被撤销的抗辩,而应通过单独的行政程序撤销布图设计登记,法院应推定布图设计登记有效,然后作出是否侵权的决定。

提取营业利润5%奖励创作者

为激励布图设计创作和应用,修订后的《条例》新增规定,法人或者非法人组织应当依照《促进科技成果转化法》和国家有关规定,对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。

崔国斌解释,修订后的《条例》直接适用《促进科技成果转化法》和国家有关规定,采用约定优先原则,允许单位与设计人员约定奖励和报酬的方式、数额和时限。未约定的,如果是自行实施或者与他人合作实施,成功投产后连续3至5年,每年提取不低于营业利润的5%给予奖励和报酬。

电子版本不得随意查阅

实践中,申请人多选择以电子申请方式提交电子版本的复制件或图样,存在泄露布图设计相关信息的担忧。修订后的《条例》配套完善了保密要求,明确除国家机关依法履职需要外,任何人不得查阅或者复制布图设计的复制件或者图样的电子版本;同时对国务院知识产权行政部门工作人员及有关人员、代理机构泄露布图设计未公开内容应当承担相应的法律责任作出规定。

修订后的《条例》强调申请布图设计登记和行使布图设计专有权应当遵循诚实信用原则,不得滥用布图设计专有权损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益。滥用布图设计专有权、排除或者限制竞争、构成垄断行为的,依照《中华人民共和国反垄断法》处理。

反歧视条款:对等回应国际限制

《条例》第五十三条明确规定,任何国家或者地区在集成电路布图设计保护方面对中华人民共和国采取歧视性的禁止、限制或者其他类似措施的,中华人民共和国可以根据实际情况对有关国家或者地区采取相应的措施。这一条款为应对国际技术封锁和歧视性政策提供了法律工具。

司法部、国家知识产权局负责人表示,下一步将重点做好三方面工作:一是加大宣传解读力度,针对《条例》专业性较强的特点,采取多种形式做好解读、宣传和培训;二是抓紧完善配套制度,统筹推进配套部门规章、规范性文件修改工作;三是切实抓好贯彻实施,认真落实《条例》规定,强化集成电路布图设计保护和运用。




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