- 俄罗斯公布EUV光刻机路线图，采用“非主流”技术路径
- 俄罗斯发布EUV光刻机路线图：2036年实现10nm以下制程芯片制造
- 清华大学李星辉团队在跨尺度结构混合光刻制备技术领域取得重要进展
- 传中芯国际在测试首款国产28纳米DUV光刻机
- 传光刻机巨头ASML将13亿欧元入股“法国OpenAI”
- 三星豪购ASML顶级光刻机！2nm芯片能否逆袭台积电？
- 上海芯上微装第500台步进光刻机成功交付
- 中船特气：光刻气产品获得日本GIGAPHOTON株式会社公格供应商认证
- 全球首台!顶级天价光刻机出货；英伟达H20解禁,中国需加速国产替代；台积电工人被砸伤、高管变动
- 【进展】新研究提出用光为量子自旋“护航”；中国科学院微电子研究所在EUV光刻收集镜红外辐射抑制方面取得新进展；中国科学院国家纳米科学中心鄢勇团队在基于离子型神经形态器件构筑智能味觉系统方面取得进展
