Tokyo Electron（TEL）前员工涉及窃取台积电2nm技术案，9月10日传出，TEL社长兼CEO河合利树赴新竹与台积电董事长暨总裁魏哲家会面，针对窃密案亲自道歉，并提出后续处理方向。

SEMICON Taiwan 2025国际半导体展近期于南港展览馆盛大登场，焦点意外落在河合利树身上。

据了解，传出河合利树赴新竹与魏哲家会面，为前员工涉及2nm技术泄露案亲自道歉，并提出后续处理方向。熟知内情人士透露，河合利树每年参与中国台湾半导体展，固定拜访魏哲家。

今年因泄密案敏感，河合利树选择低调不公开露面，避免尴尬。虽然两人密会细节并未对外说明，但被视为TEL对此事件的正式表态，也成为半导体产业关注焦点。

9月10日，中国台湾经济部门负责人龚明鑫拒绝就针对台积电2nm制程技术的商业机密窃取案发表评论，因担心此案可能影响中国台湾和日本的关系。龚明鑫表示，调查应遵循证据，并强调经济部门尊重司法部门的调查结果。

据称，一名加入TEL的前台积电工程师，在试图提升这家日本半导体设备制造商正在开发的2nm蚀刻机性能时，得到了两名台积电员工的帮助，涉嫌窃取台积电的商业机密。三人均因涉嫌泄密事件被起诉，并被公司解雇。

此案令人意外，因为涉及的是一家日本公司的员工。

中国台湾高等检察院目前正在努力证实这些工程师是单独行动，还是受日本公司指使。如果涉嫌泄密的幕后黑手不是TEL及其中国台湾子公司，那么将为这家日本公司洗脱罪名。

由于台积电的2nm技术代表着全球最先进的半导体工艺，该案已根据中国台湾安全法案提起公诉。如果工业间谍罪名成立，三名嫌疑人可能面临严厉的监禁。

外界猜测了这名TEL工程师涉嫌窃取台积电2nm制程技术数据的动机。有报道称，该工程师在TEL面临业绩压力，早在2023年8月就向仍在台积电工作的前同事寻求帮助。据称，其目的是获取关键数据，以使得TEL的设备能够通过台积电的验证，从而促进交易和采购。

台积电发现违规行为，并于2025年7月8日向中国台湾检察机关和调查人员报告了涉嫌泄密事件，案件由此曝光。调查局立即展开了两轮搜查和讯问。中国台湾当局认定此案严重威胁地区安全和行业竞争，并已获得法院批准拘留嫌疑人。检察机关正在寻求对被告判处7至14年有期徒刑。

近年来，中国台湾高科技产业屡屡遭遇来自其他地区的竞争对手挖角高级研发人才、窃取核心产业技术等事件，严重影响了中国台湾的高科技发展和竞争力。鉴于《商业机密法》的不足，中国台湾安全法案新增了保护措施，明确惩处任何为其他国家/地区或外国机构窃取中国台湾核心技术的行为。

2025年3月31日，中国台湾宣布修订核心技术清单，共计32项，其中包括14nm以下集成电路制程及相关的关键气体、化学品和设备技术。用于人工智能（AI）计算的高性能（HPC）芯片设计技术也被纳入清单。被判犯有经济间谍罪的违法者将面临5至12年的监禁，并处以500万元新台币（16.5万美元）至1亿元新台币的罚款。（校对/赵月）